离子铣削-猎户座-8- im系统

离子铣削是一种用于制造薄膜图案的干蚀刻方法。离子铣削过程在真空室中进行，在真空室中，离子氩被离子枪加速冲向样品并轰击样品被掩膜覆盖的区域。氩离子与薄膜表面的碰撞逐渐去除表面的原子。这种方法优于湿化学蚀刻和剥离工艺，因为它不涉及化学反应或薄膜拉伸。它允许以原子精度去除材料层并形成纳米尺寸的图案。

猎户座-8- im的规格和能力

• 样品台是水冷的和可旋转的。
• 它可以从水平位置倾斜到垂直位置。
• 样品台可以容纳线性尺寸高达6“的样品。
• 样品通过前门手动装载。
• 离子枪的最大射频功率为600w。枪的威力是手动调节的。
• 最大蚀刻速率取决于材料，通常在0.1到1 nm/s的范围内。
• 各种材料均可蚀刻。
• 禁止携带含有有毒物质的样品。
• 给出了不同材料的腐蚀速率表。
• 不同的无毒气体，如O2， Ar， N2可用于离子铣削（Ar是最常见的）。
• 抽运系统由干式隔膜备用泵和抽速700l /s （Pfeiffer Vacuum）的涡轮分子泵组成。

样本数据