洁净室

100级洁净室

洁净室为光刻工艺和其他实验提供了一个有效的环境，在这些实验中，灰尘颗粒可能会影响加工或测量样品的质量。

口罩对准器和紫外线曝光站

用于在光刻胶上制造微米尺寸图案的光刻设备。

Spin-Coater /电炉系统

这种台式旋转涂布机和热板系统可以很容易地用于薄膜图案的常规制造。

离子铣

这种干蚀刻方法可以常规地用于创建纳米级的薄膜图案。