口罩对准器/紫外线曝光站

掩模对准器/UV曝光站（Newport Inc.）是一种光刻设备，用于在光刻胶上制造微米尺寸的图案。光刻掩模是在光刻胶薄涂层的晶圆上对齐，并暴露在紫外线下。根据光刻胶类型（正或负），将晶圆浸入显影液后，暴露的区域被去除或保留在表面上。光刻胶覆盖的区域可以使用离子研磨、化学蚀刻或剥离来去除，以创建功能性薄膜图案。

口罩对准器/紫外线曝光站规格

• 4.25 x 4.25英寸DUV 220至260 nm 500 W泛光曝光外壳，使用HgXe短弧灯，均匀度为+/- 5%，350至450nm二色镜转换为NUV 350至450nm区域。
• 数字曝光控制器，以保持灯的稳定性，因为它老化到+/- 1%以内，曝光时间从10毫秒到9999小时在0.1秒的间隔，和剂量控制。
• 掩模对准夹具，易于3步对准，以适应1英寸外径或1 x 1英寸至6英寸外径或6 x 6英寸的晶圆/基板；5 x 5英寸掩模支架和自定义4英寸晶圆支架，可容纳4英寸外径和3英寸外径晶圆；安装在24行程的精密平移滑块上。
• Splitfield显微镜安装在X-Y台上，带有照明套件，可照亮高反射和非反射基板/晶圆；5倍和10倍的物镜；和显微镜视频试剂盒。
• 手持式功率计和校准探头峰值为254nms和365nms。

样本数据